PV/ Semiconductor — Carbomann

	Выращивание монокристаллов	Эпитаксия
Применения	Кремний Карбид кремния	Эпитаксия кремния Эпитаксия карбида кремния MOCVD (Метод органического химического осаждения из газовой фазы)
Продукция	Нагревательные элементы Подставки для зерен, конусы и части горячей зоны Теплоизоляционные экраны и отражатели Изоляция	Подложки для одиночных пластин Подложки в виде блинчиков Подложки в виде бочек
Материалы	Изостатически прессованный Углерод, армированный углеродным волокном Жёсткие и мягкие войлоки Покрытие из карбида кремния Расширенная гибкая графитовая фольга	Изостатически прессованное Покрытие из карбида кремния Жёсткие и мягкие войлоки

	Производство полисилена	Выращивание монокристаллического кремния	Нанесение антирефлексного и пассивационного слоя (PECVD)
Применения	Полисилиций	Монокристаллический кремний	Кремниевый нитрид/оксид
Продукция	Нагревательные элементы Теплоизоляционные экраны Изоляция Графитовые патроны	Обогреватели Тигли Изоляция Теплоизоляционные экраны	Переносные подложки
Материалы	Изостатически прессованный Покрытие из карбида кремния Жёсткие и мягкие войлоки Aрмированный углеродным волокном Углерод Расширенная гибкая	Изостатически прессованное покрытие из карбида кремния Покрытие из карбида кремния Жёсткие и мягкие войлоки Aрмированный углеродным волокном Углерод Расширенная гибкая	Изостатически прессованное покрытие из карбида кремния Углерод, армированный углеродным волокном